一体型气相掺杂装置[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一体型气相掺杂装置专利类型：实用新型专利

发明人：令狐铁兵,张明亮,高林育,仝泉申请号：CN201320275201.3申请日：20130520公开号：CN203307477U公开日：20131127

摘要：本实用新型所述的一种一体型气相掺杂装置，是用于直拉法生产易挥发掺杂元素单晶硅生产过程中砷、磷等元素的掺杂，该掺杂装置主要由上部挂件（1）、中部空腔（2）、掺杂导管（5）、石英罩（7）构成；中部空腔（2）内设有一个掺杂导管（5），通过掺杂导管（5）将掺杂元素（4）装入中部空腔（2）内，中部空腔（2）的下端设有与掺杂导管（5）连在一起的石英罩（7）可起到保护硅熔体溅起破坏或污染热屏的作用，同时也可起到阻止掺杂元素（4）的蒸气被真空泵抽走的作用。使用本实用新型，增加了掺杂元素（4）与熔硅的接触时间，提高了掺杂效率，操作方便，安全性能好，克服了现有技术中气相掺杂效率低、掺杂装置易损坏的问题。

申请人：洛阳单晶硅有限责任公司

地址：471009 河南省洛阳市西工区九都路77号

国籍：CN

代理机构：洛阳明律专利代理事务所

代理人：卢洪方

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