X射线金透射光栅的制备方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：X射线金透射光栅的制备方法专利类型：发明专利

发明人：胡华奎,郑衍畅,唐冶,王铭,邱克强,刘正坤,付绍军,杨

春来,王海

申请号：CN201910555170.9申请日：20190625公开号：CN1102832A公开日：20190927

摘要：本发明公开了一种X射线金透射光栅的制备方法，该方法先使用金属催化刻蚀技术制作大槽深、侧壁陡直且光滑的硅光栅掩模，然后在硅光栅掩模槽中电镀沉积黄金，最后去掉硅光栅掩模获得大槽深、侧壁陡直且光滑的金透射光栅。本发明与现有技术相比，其有益技术效果体现在：能制作出大槽深、侧壁陡直且光滑的金透射光栅。

申请人：安徽工程大学

地址：241000 安徽省芜湖市鸠江区北京中路8号

国籍：CN

代理机构：芜湖安汇知识产权代理有限公司

代理人：王冰冰

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