专利名称：衬底处理装置专利类型：发明专利
发明人：李主日,金熙哲,金大渊申请号：CN201810835270.2申请日：20180726公开号：CN109326537A公开日：20190212
摘要：本发明提供一种衬底处理装置，所述衬底处理装置能够防止顶盖通过衬底处理装置的自身重量和/或由真空泵产生的真空吸引力和/或高温过程下的热冲击而在包含多个反应器的腔室中向下方下垂。并且，提供一种用于在多个反应器之间传递衬底的旋转轴。
申请人：ASM知识产权私人控股有限公司
地址：荷兰阿尔梅勒佛斯特卡尔斯瑞特8,AP1322
国籍：NL
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
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